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Description
물질의 전자 상태를 분석하기 위해 Angle-Resolved Photoemission Spectroscopy (ARPES)를 이용할 수 있지만, 일반적인 ARPES는 광원의 크기 제한으로 인해 수백 마이크로미터 이상의 균일한 시료가 필요하다. 이러한 한계를 극복하기 위해 Spatially-resolved ARPES가 활용되고 있으나 작은 크기의 저차원 반데르발스 물질의 전자구조를 정확하게 측정하기 위해서는 오염이 없는 깨끗한 표면을 확보하는 것이 필수적이다. 기존의 화학 세척, Plasma Etching 및 Annealing 공정은 잔류 오염물 제거 효율 및, 시료 손상 측면에서 한계를 가진다. 본 연구에서는 화학 세척만 수행한 시료와 Atomic Force Microscopy(AFM) Cleaning을 추가로 수행한 시료를 비교하여, 세척 방법이 ARPES 측정 신호의 품질 및 전자구조 분석에 미치는 영향을 평가하고자 한다. Mechanical Exfoliation을 통해 단일 층 MoS₂ 을 제작하고 광전자 방출 과정에서 발생할 수 있는 Charging effect를 최소화하기 위해 Chemical Vapor Deposition(CVD) 그래핀 위로 Dry Transfer 하였다. Dry Transfer는 PDMS, PPC 및 PC 기반 스탬프를 이용하여 수행하였고, 이후 AFM Cleaning을 수행하였다. 향후 Nano Electron Spectroscopy for Chemical Analysis (Nano ESCA)를 통해 전자구조를 바탕으로 표면 상태에 따른 차이를 분석할 예정이다.
